Китайские литографы.
Jan. 3rd, 2022 06:53 pm![[personal profile]](https://www.dreamwidth.org/img/silk/identity/user.png){kind=small}
techworkПроизводителем литографического оборудования в Китае является государственная корпорация SMEE по английски это огурчик.
http://www.smee.com.cn/
Что они могут
А могут они собственно говоря всё что надо. но базово.
http://www.smee.com.cn/eis.pub?service=homepageService&method=indexinfo&onclicknodeno=1_4_4
На их оборудовании можно в случа необходимости произвести AMOLED - это SSB260/20T 1.5μm L/S
диоды, мелкую логику и силовую электронику SSB300 0.8μm
Так же у них есть и устаревшие уже модели но там вообще мрак.
Из собственно производчта чипов это
SSA600/20 - сухой литографии 90 нм на 300 мм пластинах , НО оверлей там .... К тому же именно сухая литография и одинарное экспонирование.
Но это они продают всем. Микроконтролёры производить хватит. Для военных тоже.
Первый свой более широкий продукт они пока что обкатывают на сайте его нет это SSA800
Что он может а что он не может .
Это имерсионный литограф кстати работает он на реагентах и от Росатома.
Он может 28 нм но вот оверлей ... даже откровенно дерьмовый TWINSCAN NXT:1970Ci на много лучше. А это самый дерьмовый имерсионный сканер с оверлеем в 3,5 нм. Китайцы пока не раскрывают какой он но судя по некоторым данным он порядка 4,5 нм.
Так что да он может 28 нм с двойным экспонированием - но скорость порядка 120 пластин что более чем в два раза медленее чем TWINSCAN NXT:1970Ci ну и выход годных ниже. В итоге это как экстренное решение пригодно. Но если бы я строил промышленность я бы выбил с японцев возможность купить у них Nikon NSR-S635E. Потому что на нём можно сделать планарный 20 нм техпроцесс - то есть без FinFET который вообще гостайна. А вот на китайском 28 предел и долго и упорно долбить стенку.
http://www.smee.com.cn/
Что они могут
А могут они собственно говоря всё что надо. но базово.
http://www.smee.com.cn/eis.pub?service=homepageService&method=indexinfo&onclicknodeno=1_4_4
На их оборудовании можно в случа необходимости произвести AMOLED - это SSB260/20T 1.5μm L/S
диоды, мелкую логику и силовую электронику SSB300 0.8μm
Так же у них есть и устаревшие уже модели но там вообще мрак.
Из собственно производчта чипов это
SSA600/20 - сухой литографии 90 нм на 300 мм пластинах , НО оверлей там .... К тому же именно сухая литография и одинарное экспонирование.
Но это они продают всем. Микроконтролёры производить хватит. Для военных тоже.
Первый свой более широкий продукт они пока что обкатывают на сайте его нет это SSA800
Что он может а что он не может .
Это имерсионный литограф кстати работает он на реагентах и от Росатома.
Он может 28 нм но вот оверлей ... даже откровенно дерьмовый TWINSCAN NXT:1970Ci на много лучше. А это самый дерьмовый имерсионный сканер с оверлеем в 3,5 нм. Китайцы пока не раскрывают какой он но судя по некоторым данным он порядка 4,5 нм.
Так что да он может 28 нм с двойным экспонированием - но скорость порядка 120 пластин что более чем в два раза медленее чем TWINSCAN NXT:1970Ci ну и выход годных ниже. В итоге это как экстренное решение пригодно. Но если бы я строил промышленность я бы выбил с японцев возможность купить у них Nikon NSR-S635E. Потому что на нём можно сделать планарный 20 нм техпроцесс - то есть без FinFET который вообще гостайна. А вот на китайском 28 предел и долго и упорно долбить стенку.
