Конец итераций лжи
May. 17th, 2024 10:24 am![[personal profile]](https://www.dreamwidth.org/img/silk/identity/user.png){kind=small}
techworkВ Японии три компании которые разрабатывают базовые технологии производства чипов.
Nikon Canon Toshiba.
Литографическое оборудование делают Nikon и Canon.
Как я и говорил самый лучший в мире в ArF литографии вовсе не ASML а Nikon NSR-S635E. Да он медленный но проще поставить ещё одну установку.
У Canon лучший FPA-1200 который аналог TWINSCAN NXT:1980Di это уровень Intel 14 без плюсов.
Именно на промышленное производство.
Они сделали новую линзу которую назвали металинзой. Её особенность в том что вместо нескольких линз нужна одна, но чистота воздуха крайне важна так как коррекция там очень ограниченная.
В итоге они сделали FPA-1200 NZ2 это тот же FPA-1200, но с другой линзой, а она позволяет на самом деле N12 а Intel 10/7 очень условно. И требования у чистоте.
Эти возможности описываются оверлеями.
На NSR-S635E он 2,2 nm это позволяет делать N3 правда с низким выходом и четверным экспонированием. Но позволяет и без всякой оловянной рентгеновской хрени.
На новом NSR-S636E есть режим высокой скорости на 25% быстрее он с оверлеем 2,5 nm. На ней не сделаешь N3 но N7 в промышленном режиме вполне.
А вот Canon FPA-1200 NZ2 заявлений куча а какой оверлей ? 3,6 nm. Ну а что это значит ?
Даже N7 он будет давать с меньшим выходом годных. Это на N12 машина у Самсунга такой же размер зовётся 8N. В общем то всё. Но да она очень быстрая быстрее TWINSCAN NXT:2050i самого быстрого в мире на 10%. Но по факту это даже хуже по точности чем NSR-S622D 2013 года.
Но требования к чистоте ...
В итоге задумка оригинальная но толку маловато.
Журнаглисты конечно разнесли бредятину про него принтинг и бла бла бла.
Абсотно чушь. Разница в скорости и вероятно двойной проход он сможет делать за одну экспозицию. и тогда речь о скорости в два раза быстрее. Ну в 1,8.
То есть Canon сделали бешенный принтер. Но вот всё сказки о том что 5nm. НЕТ.
В тоже время NSR-S636E это лишь ответ на TWINSCAN NXT:2100i и близки к ним по характеристикам.
Но все равно медленее но точнее. Намного.
Таких точных как NSR-S635E у ASML нет так как они сделали ставку на олово и рентген.
Но знаковое тут то что на самом деле никто NSR-S635E которому уже сколько лет ? Не превзошёл. А новые модели ничего не дают в точности процесса.
Это конец на самом деле. Ложь скоро закончится.
Nikon Canon Toshiba.
Литографическое оборудование делают Nikon и Canon.
Как я и говорил самый лучший в мире в ArF литографии вовсе не ASML а Nikon NSR-S635E. Да он медленный но проще поставить ещё одну установку.
У Canon лучший FPA-1200 который аналог TWINSCAN NXT:1980Di это уровень Intel 14 без плюсов.
Именно на промышленное производство.
Они сделали новую линзу которую назвали металинзой. Её особенность в том что вместо нескольких линз нужна одна, но чистота воздуха крайне важна так как коррекция там очень ограниченная.
В итоге они сделали FPA-1200 NZ2 это тот же FPA-1200, но с другой линзой, а она позволяет на самом деле N12 а Intel 10/7 очень условно. И требования у чистоте.
Эти возможности описываются оверлеями.
На NSR-S635E он 2,2 nm это позволяет делать N3 правда с низким выходом и четверным экспонированием. Но позволяет и без всякой оловянной рентгеновской хрени.
На новом NSR-S636E есть режим высокой скорости на 25% быстрее он с оверлеем 2,5 nm. На ней не сделаешь N3 но N7 в промышленном режиме вполне.
А вот Canon FPA-1200 NZ2 заявлений куча а какой оверлей ? 3,6 nm. Ну а что это значит ?
Даже N7 он будет давать с меньшим выходом годных. Это на N12 машина у Самсунга такой же размер зовётся 8N. В общем то всё. Но да она очень быстрая быстрее TWINSCAN NXT:2050i самого быстрого в мире на 10%. Но по факту это даже хуже по точности чем NSR-S622D 2013 года.
Но требования к чистоте ...
В итоге задумка оригинальная но толку маловато.
Журнаглисты конечно разнесли бредятину про него принтинг и бла бла бла.
Абсотно чушь. Разница в скорости и вероятно двойной проход он сможет делать за одну экспозицию. и тогда речь о скорости в два раза быстрее. Ну в 1,8.
То есть Canon сделали бешенный принтер. Но вот всё сказки о том что 5nm. НЕТ.
В тоже время NSR-S636E это лишь ответ на TWINSCAN NXT:2100i и близки к ним по характеристикам.
Но все равно медленее но точнее. Намного.
Таких точных как NSR-S635E у ASML нет так как они сделали ставку на олово и рентген.
Но знаковое тут то что на самом деле никто NSR-S635E которому уже сколько лет ? Не превзошёл. А новые модели ничего не дают в точности процесса.
Это конец на самом деле. Ложь скоро закончится.
no subject
Date: 2024-05-18 03:09 am (UTC)Вот у меня 2673v3 ему сколько лет ? Какая у него технология ? А как он отличается от современных супермегапроцов ?
В реальности микроконтроллёрам нужно 45 нм. Нет подходит и крупнее но 45 нм это оптимум . А так и 90 хватает . Памяти процессорам флешу смартам 14 нм самого стандартного. Выигрыш N7 даёт НО экран жрёт все равно больше этого выигрыша на порядки.
Технологии меньше нужны реально только для одной задачи - GPU Computing. Ну и геймеры это оплачивают и майнеры. В смартфонах все эти нанометры после 14 нм не приносят реальной пользы так как в устройстве в целом это 5% потребления. И сколько не экономь ничего толком не сэкономишь. Архитектура влияет куда больше чем техпроцесс. Но и там A510 выжимает всё что можно по энергопотреблению. А А520/А720 это для мощных мобил. X ядра не нужны на самом деле. Там где они нужны там Neoverse V3 лучше например обучение нейросетей, впрочем и как замена x86.
Но реально восемь A510 v2 всё что надо для повседневного использования. И технологии достаточно 14 нм.
Остальное же это попытка удержать рынок. Какие-то нахрен не нужные решения. Ибо реально технологии как бы новые реально очень мало что дают. И N6 при том что стоит дороже 14 Skylake в шесть раз всё что даёт выигрыш в энергопотреблении 40%. Ну так себе если честно.