![[personal profile]](https://www.dreamwidth.org/img/silk/identity/user.png){kind=small}
Конец итераций лжи
В Японии три компании которые разрабатывают базовые технологии производства чипов.
Nikon Canon Toshiba.
Литографическое оборудование делают Nikon и Canon.
Как я и говорил самый лучший в мире в ArF литографии вовсе не ASML а Nikon NSR-S635E. Да он медленный но проще поставить ещё одну установку.
У Canon лучший FPA-1200 который аналог TWINSCAN NXT:1980Di это уровень Intel 14 без плюсов.
Именно на промышленное производство.
Они сделали новую линзу которую назвали металинзой. Её особенность в том что вместо нескольких линз нужна одна, но чистота воздуха крайне важна так как коррекция там очень ограниченная.
В итоге они сделали FPA-1200 NZ2 это тот же FPA-1200, но с другой линзой, а она позволяет на самом деле N12 а Intel 10/7 очень условно. И требования у чистоте.
Эти возможности описываются оверлеями.
На NSR-S635E он 2,2 nm это позволяет делать N3 правда с низким выходом и четверным экспонированием. Но позволяет и без всякой оловянной рентгеновской хрени.
На новом NSR-S636E есть режим высокой скорости на 25% быстрее он с оверлеем 2,5 nm. На ней не сделаешь N3 но N7 в промышленном режиме вполне.
А вот Canon FPA-1200 NZ2 заявлений куча а какой оверлей ? 3,6 nm. Ну а что это значит ?
Даже N7 он будет давать с меньшим выходом годных. Это на N12 машина у Самсунга такой же размер зовётся 8N. В общем то всё. Но да она очень быстрая быстрее TWINSCAN NXT:2050i самого быстрого в мире на 10%. Но по факту это даже хуже по точности чем NSR-S622D 2013 года.
Но требования к чистоте ...
В итоге задумка оригинальная но толку маловато.
Журнаглисты конечно разнесли бредятину про него принтинг и бла бла бла.
Абсотно чушь. Разница в скорости и вероятно двойной проход он сможет делать за одну экспозицию. и тогда речь о скорости в два раза быстрее. Ну в 1,8.
То есть Canon сделали бешенный принтер. Но вот всё сказки о том что 5nm. НЕТ.
В тоже время NSR-S636E это лишь ответ на TWINSCAN NXT:2100i и близки к ним по характеристикам.
Но все равно медленее но точнее. Намного.
Таких точных как NSR-S635E у ASML нет так как они сделали ставку на олово и рентген.
Но знаковое тут то что на самом деле никто NSR-S635E которому уже сколько лет ? Не превзошёл. А новые модели ничего не дают в точности процесса.
Это конец на самом деле. Ложь скоро закончится.
Nikon Canon Toshiba.
Литографическое оборудование делают Nikon и Canon.
Как я и говорил самый лучший в мире в ArF литографии вовсе не ASML а Nikon NSR-S635E. Да он медленный но проще поставить ещё одну установку.
У Canon лучший FPA-1200 который аналог TWINSCAN NXT:1980Di это уровень Intel 14 без плюсов.
Именно на промышленное производство.
Они сделали новую линзу которую назвали металинзой. Её особенность в том что вместо нескольких линз нужна одна, но чистота воздуха крайне важна так как коррекция там очень ограниченная.
В итоге они сделали FPA-1200 NZ2 это тот же FPA-1200, но с другой линзой, а она позволяет на самом деле N12 а Intel 10/7 очень условно. И требования у чистоте.
Эти возможности описываются оверлеями.
На NSR-S635E он 2,2 nm это позволяет делать N3 правда с низким выходом и четверным экспонированием. Но позволяет и без всякой оловянной рентгеновской хрени.
На новом NSR-S636E есть режим высокой скорости на 25% быстрее он с оверлеем 2,5 nm. На ней не сделаешь N3 но N7 в промышленном режиме вполне.
А вот Canon FPA-1200 NZ2 заявлений куча а какой оверлей ? 3,6 nm. Ну а что это значит ?
Даже N7 он будет давать с меньшим выходом годных. Это на N12 машина у Самсунга такой же размер зовётся 8N. В общем то всё. Но да она очень быстрая быстрее TWINSCAN NXT:2050i самого быстрого в мире на 10%. Но по факту это даже хуже по точности чем NSR-S622D 2013 года.
Но требования к чистоте ...
В итоге задумка оригинальная но толку маловато.
Журнаглисты конечно разнесли бредятину про него принтинг и бла бла бла.
Абсотно чушь. Разница в скорости и вероятно двойной проход он сможет делать за одну экспозицию. и тогда речь о скорости в два раза быстрее. Ну в 1,8.
То есть Canon сделали бешенный принтер. Но вот всё сказки о том что 5nm. НЕТ.
В тоже время NSR-S636E это лишь ответ на TWINSCAN NXT:2100i и близки к ним по характеристикам.
Но все равно медленее но точнее. Намного.
Таких точных как NSR-S635E у ASML нет так как они сделали ставку на олово и рентген.
Но знаковое тут то что на самом деле никто NSR-S635E которому уже сколько лет ? Не превзошёл. А новые модели ничего не дают в точности процесса.
Это конец на самом деле. Ложь скоро закончится.
no subject
no subject
no subject
no subject
Тесла со своим аджилом в прошивках проигрывает BYD где обновления только на медиасистему. А контроллеры раз прошивают и всё. Вся эта аджил херня лишь удорожает систему.
Контроллер должен водится на C процедурном. Это самое правильное. Тем более что C11 это ну там ошибки сделать сложнее.
Объектное программирование там как собаке пятая нога.
Нанометры же там даже липовые кончились N3 это последние технологии. Новых не будет все. Эти A16 это менее надёжные N3.
TSMC не просто так сказала что новые литографы ей не нужны для этого.
А последний процесс при котором энергоэффективность выросла был вообще N6. Всё что после это лишь рост плотности упаковки который нахер не нужен. Даже N5 уже не дал прироста к N6. просто N6 редко использовали поэтому и говорят что 15% роста энергоэффективности к N7 на самом деле нет. Это у N6 15%, а у N5 к N6 0%.
То есть всё уже закончилось в 2020 году. С тех пор только чистый маркетинг.
А N6 позволяет делать как раз таки NSR-S635E промышленным выходом годных и масштабом. То есть фактически нет смысла в технологии X-ray Машина 2018 года справляется на традиционных технологиях и доработка она машины 2013 года NSR-S622D.
Никакого нового фоторезиста который делает только три фирмы в мире две американских и одна японская, не требуется. Можно брать тот что делает много кто.
no subject
N5 4N N3 это уже всё только про плотность упаковки. Физический предел это N7. А надежды на x-ray были обманом. В реальности эта технология снижает надёжность чипов . А выгода от неё есть только у отсталых корейцев . Которые не могут как TSMC N7 на обычном сделать или как Intel 10/7 и Nikon 5. Я не удивлюсь если китайцы уже закупились у Nikon.
no subject
Вот у меня 2673v3 ему сколько лет ? Какая у него технология ? А как он отличается от современных супермегапроцов ?
В реальности микроконтроллёрам нужно 45 нм. Нет подходит и крупнее но 45 нм это оптимум . А так и 90 хватает . Памяти процессорам флешу смартам 14 нм самого стандартного. Выигрыш N7 даёт НО экран жрёт все равно больше этого выигрыша на порядки.
Технологии меньше нужны реально только для одной задачи - GPU Computing. Ну и геймеры это оплачивают и майнеры. В смартфонах все эти нанометры после 14 нм не приносят реальной пользы так как в устройстве в целом это 5% потребления. И сколько не экономь ничего толком не сэкономишь. Архитектура влияет куда больше чем техпроцесс. Но и там A510 выжимает всё что можно по энергопотреблению. А А520/А720 это для мощных мобил. X ядра не нужны на самом деле. Там где они нужны там Neoverse V3 лучше например обучение нейросетей, впрочем и как замена x86.
Но реально восемь A510 v2 всё что надо для повседневного использования. И технологии достаточно 14 нм.
Остальное же это попытка удержать рынок. Какие-то нахрен не нужные решения. Ибо реально технологии как бы новые реально очень мало что дают. И N6 при том что стоит дороже 14 Skylake в шесть раз всё что даёт выигрыш в энергопотреблении 40%. Ну так себе если честно.