Ну блядь, - а я же говорил...

[techwork]

Много рекламировали безмасковую литографию. Но выясняется что выгоднее обычный i-line степпер на 350 нм. Потому что вся безмасоквая литография как я и говорил, слишком медленная и требует дорогих решений. Да насадка на электронный микроскоп на 1,5 мкм конечно стоит дешевле если его использовать и как микроскоп. Но специализированные комплексы в итоге затратней чем маска низкого разрешения и литография на 75-100 мм пластинах. То есть для прототипирования лучше комплекс оборудования который делает даже Планар. Тот самый советский. А серийное производство все равно требует традицонной фотолитографии. Почему даже Гейдельберг перешёл на MPO100 3D печать для MEMS.

Потому все его экспременты с MPL300 провалились. Никому не нужно.

Ну идея была с самого начала бредовой. Да маска стоит денег НО на пластину 75 мм которая и легко и дёшево выращивается, и так помещается очень мало чипов. Так что разместив там четыре или восемь кристаллов для прототипа всё пространство может и закончится, а если и нет пластина стоит дешевле 300мм по себестоимости в 100 раз. Её можно растить на самом дешёвом оборудовании и очень быстро. К тому же это позволяет подготовить больше специалистов которых для работы на взрослых литографических машинах типа Nikon NSR-S635E можно быстро переподготовить так как все основные стадии техпроцесса им известны. Разница только в точности оборудования. Ну и подача Фтористого Водорода.

Так что я ещё когда Чубайс заливал бабки в Мапле я говорил что это всё наноболт. Ну я оказался прав.

Если бы я правил то я бы закупил для всех университетов такие установки i-line 350.